photolithography的英式读音为：['fəʊtəʊlɪθɒɡrəfɪ]，美式读音为：['foʊtoʊlɪθɑːgrəfi]。意思是光刻法。

用法示例：

1. 光刻法是一种在集成电路制造中广泛应用的技术。

2. 电子束光刻是一种更高级的光刻技术。

photolithography可以作为名词使用，表示“光刻法”，可以用作名词主语、宾语或同位语。同时，它也可以用作动词，表示“用光刻法制造”的意思。

双语翻译：在中文中，光刻法可以翻译为“photoengraving method”或“photolithography”。

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photolithography的意思是：光刻法

释义：光刻法是一种用于制造大规模集成电路和其他微电子设备的精密技术。它利用光线将掩模（一种模板）上的图案转移到硅片或其他基底材料上。

用法：在英语中，photolithography通常用于描述光刻过程的技术细节和实现方法。例如，我们可以说“采用光刻法制造微电子元件”或“光刻机是光刻技术的主要设备”。

双语翻译：在翻译成中文时，photolithography可以被译为“光刻法”。

常见用法：光刻法是一种重要的微电子制造技术，其广泛应用在制造集成电路、微机械部件、光学部件和分子级别部件等领域。

举例用法：在制造微芯片时，光刻机是一种必不可少的设备，它能够将光线的图案转移到硅片上，从而制造出精密的集成电路。此外，光刻法也被广泛应用于制造微机械部件和纳米器件等领域。

photolithography，光刻，释义为“利用光化学反应将欲复制的图形或文字显影于光敏物质上之技术”，例句为“The process of photolithography is used to transfer a pattern onto a surface of a substrate”。

常见短语有：photolithography equipment 光刻机、photolithography mask 光刻掩膜、photolithography process 光刻工艺等。

翻译列举：

1. 光刻法

2. 光致成像

3. 光致抗蚀剂

4. 光致抗蚀模版

5. 光致抗蚀剂涂敷

6. 光刻工艺

7. 掩膜光刻

8. 图形光刻

9. 图形光致抗蚀剂

10. 图形光致抗蚀模版